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专利名称一种二维光栅结构及其制造方法
申请日2019-02-28
申请号/专利号CN201910148519.7
专利权人上海集成电路研发中心有限公司
申请人上海集成电路研发中心有限公司
发明人/设计人王伟军;李铭
公告日2019-06-21
公告号CN109917502A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明公开了一种二维光栅结构,自下而上包括:衬底,悬空层和光栅结构,所述光栅结构为由多个二维光栅图形以一定周期排列而成的对称性或非对称性阵列,所述悬空层中对应设有阵列状的支撑结构;其中,每个所述支撑结构下端连接设于所述衬底上,上端对应连接一个所述二维光栅图形底面,使所述光栅结构处于悬空状态。本发明通过工艺流程及设计图形的适当调整,形成悬空的二维光栅,具有较高的折射率对比结构,即高折射率的光栅材料被低折射率的材料所围绕,由此可优化光栅性能,在较宽波长范围内实现高反射率的光学特性,降低对光波偏振状态的敏感性。本发明还公开了一种二维光栅结构的制造方法。
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