本发明属于电致变色无机薄膜技术，为电致变色薄膜的制作方法，步骤如下：洗净的透明导电材料置于磁控溅射腔室内，控制好溅射腔室的参数，控制好分子泵与真空溅射腔室之间的打通角度；对第一层膜生长的金属靶材进行预溅射处理，打开基片挡板进行第一层膜的溅射生长处理，控制溅射功率和时间，让第一层膜涨到合适厚度；在第一层无机电致变色薄膜的基础上进行第二层膜生长，对第二层膜溅射的金属靶材进行预溅射处理，控制让第二层膜涨到合适的厚度。本发明利用磁控溅射的方法，在第一层电致变色薄膜基础上涨一层具有电致变色性能的保护膜或良好离子传导能力的保护膜，以获得新型结构的电致变色薄膜，有效提高了单膜电致变色薄膜的电致变色性能。