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专利名称一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置
申请日2019-02-27
申请号/专利号CN201910146467.X
专利权人京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
申请人京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
发明人/设计人郭雄;左丞;党康鹏;陈宏;金钟;秦鹏;饶杨;王博;罗仲丽;刘腾;唐元生;黄世飞
公告日2019-06-14
公告号CN109888021A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明实施例提供一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置,涉及显示技术领域,可解决有源层的制备工序繁琐的问题。在衬底上形成有源层包括:在衬底上形成半导体图案,半导体图案包括沟道区;在半导体图案上形成阻挡层;以第一角度对半导体图案进行第一次离子注入,在沟道区的第一侧和第二侧分别形成第一掺杂区;以第二角度对半导体图案进行第二次离子注入,在沟道区的第一侧形成第二掺杂区;以第三角度对半导体图案进行第二次离子注入,在沟道区的第二侧形成第二掺杂区;第一次离子注入的离子浓度大于第二次离子注入的离子浓度,第一角度、第二角度和第三角度均为离子束与衬底的夹角,第二角度和第三角度均小于第一角度。
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