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专利名称阵列基板及其制作方法、显示装置
申请日2019-02-26
申请号/专利号CN201910143050.8
专利权人武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请人武汉华星光电半导体显示技术有限公司
发明人/设计人张伟琦
公告日2019-06-14
公告号CN109887932A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

阵列基板包括衬底基板、有源层、栅极绝缘层、电介质层、第一过孔以及源漏电极。所述第一过孔贯穿所述电介质层、所述栅极绝缘层以及所述栅极线层,暴露出所述有源层的源漏电极接触部分,所述源漏电极通过所述第一过孔,与所述源漏电极接触部分相接触。通过贯穿电介质层、栅极绝缘层以及栅极线层的第一过孔,利用源漏电极将栅极线层与有源层相连通,在实现与桥式连接结构相同功能的基础上,既简化了栅极线层与有源层之间连接结构,又减小了栅极线层与有源层之间连接结构所占据的空间。
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