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专利名称一种10.6μm激光窗口抗磁可加热薄膜膜系结构
申请日2019-02-24
申请号/专利号CN201910134962.9
专利权人西安应用光学研究所
申请人西安应用光学研究所
发明人/设计人刘青龙;米高园;张建付;王松林;韩俊;金柯;杨崇民;王慧娜;黎明;董莹;刘永强;李明伟;杨建军
公告日2019-06-18
公告号CN109901247A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明提出一种10.6μm激光窗口抗磁可加热薄膜膜系结构,包括红外基片、介质膜层、导电膜层和电极膜层;第一膜层为硫化锌膜层,镀制在所述红外基片的表面上,膜层厚度300~600nm;第二膜层为锗膜层,厚度654±1nm,镀制在第一膜层上;第三膜层为硫化锌膜层,厚度为1232±2nm;第四膜层为锗膜层,厚度618~643nm;第五层为导电膜层,厚度15±1nm;第六层为金属电极膜层,厚度200±5nm,镀制在红外基片镀膜面边缘并与第五层连通;第七膜层为锗膜层,厚度536~636nm;第八层为硫化锌膜层,厚度为1267~1419nm;第九层为锗膜层,厚度320~546nm;第十层为硫化锌膜层,厚度为540~625nm。通过在激光窗口上制备透明导电膜层,使窗口具有除冰和屏蔽电磁功能,提高激光制导系统抗冰霜和电磁能力。
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