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专利名称一种单层二维材料中能谷光子的分离方法及分离装置
申请日2019-01-31
申请号/专利号CN201910094647.8
专利权人华中科技大学
申请人华中科技大学
发明人/设计人王凯;陆培祥;洪玄淼;赵文超;龙华;刘为为;王兵
公告日2019-05-21
公告号CN109782455A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明涉及一种单层二维材料中能谷光子的分离方法,包括:制作纳米孔阵列;在纳米孔阵列的一表面上层叠单层二维材料薄膜;向纳米孔阵列的另一表面上入射线偏激光,线偏激光经纳米孔阵列的调制,得到自旋相反且发射方向不同的两束圆偏激光,单层二维材料薄膜在两束圆偏激光的激发下,发射出自旋相反且出射方向不同的两束能谷光子,完成能谷光子的分离。本发明采用纳米孔阵列辅助单层二维材料中能谷光子的分离,在产生倍频的能谷光子的同时,提高单层二维材料的倍频效率。另外,可以在常温下对能谷光子的出射方向进行操控,自由度高,能谷光子转换效率高。
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