本发明公开了一种衍射效率渐变的光栅耦合器制备装置和制备方法，包括：离子束发生器，其发出离子束以刻蚀光栅；挡板，其位于所述离子束发生器的下侧，所述挡板上开设有通孔；沿x方向，所述通孔在y方向的宽度渐变；样品台，其位于所述挡板下侧，所述样品台用于放置样品，所述样品为光栅基板，所述光栅基板上设置有光栅掩膜；动力组件，其驱动所述样品台或所述挡板沿y方向匀速运动；其中，x方向和y方向为水平面上相互垂直的方向；所述动力组件驱动所述样品与所述通孔在y方向发生相对移动，所述离子束经所述通孔在样品上刻蚀出槽深渐变的光栅。其能够刻蚀衍射效率渐变的光栅，精度高，便于实施。