本发明提供了一种长工作距离的等离激元纳米光刻方法，包括：A)制备领结光刻头部；B)制备曝光衬底；C)将领结光刻头部与曝光衬底紧密接触，即为领结光刻头部的第一银膜层与曝光衬底的光刻胶层紧密接触；D)将采用激光光源，经起偏器和物镜调整获得与领结型孔径尖角平行的曝光光场，经曝光、显影得到纳米结构。与现有技术相比，本发明通过在铝质掩膜中涉及领结型结构，可以实现对光场的局域、增强，以获得更高的分辨率；通过银层与PMMA层折射率匹配，可以提升表面等离激元激发效率，延长曝光距离；通过银层‑光刻胶层‑银层组成金属‑介质‑金属结构，能够实现焦深调制，延长曝光深度。