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专利名称光点阵投影模组和深度相机
申请日2019-01-16
申请号/专利号CN201910038363.7
专利权人北京华捷艾米科技有限公司
申请人北京华捷艾米科技有限公司
发明人/设计人高乾坤;盛赞;李骊;王行;周晓军;杨淼;李朔
公告日2019-05-10
公告号CN109739027A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明公开了一种光点阵投影模组和深度相机。包括:光源,用于提供预设的第一斑点图案;准直透镜,设置在所述光源的出光侧,以接收所述第一斑点图案并将所述第一斑点图案调制为准直第一斑点图案;达曼光栅,所述达曼光栅设置在所述准直透镜的出光侧,以接收所述准直第一斑点图案并将其复制扩展,以获得第二斑点图案;投影透镜,所述投影透镜设置在所述达曼光栅的出光侧,以接收所述第二斑点图案并将所述第二斑点图案按照预定比例投射至待测目标场景。采用达曼光栅进行点阵复制扩展,可以使得光点阵投影模组的衍射强度均匀性更好,因此,深度相机具有比较统一的深度测量指标,为后续应用开发提供了更高的自由度与更精确的基础参数值。
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