本申请提供一种光阻涂布装置及其制备图案化光阻层的方法，其包括光源、光罩、感光机构、处理机构和涂布机构；光罩设置在光源的出光侧，用于接受光源的光照以形成光图案，光图案投射至感光机构；感光机构设置在所述光罩的出光侧，用于将光图案的光信号转换为电信号，并将电信号发送至处理机构；处理机构用于将电信号转换为控制信号，并将控制信号发送至涂布机构；涂布机构用于根据所述控制信号，进行光阻材料的涂布，以形成图案化的光阻层，光阻层的图案与所述光图案一致。本申请将现有技术中的涂布光阻和曝光制程进行了结合，并取消了显影的步骤，进而精简了工艺步骤，提高了效率。