本发明提供一种纳米图案的拼接方法、纳米压印板、光栅及制作方法，涉及显示技术领域。纳米图案的拼接方法包括：压印区域界定步骤：在形成有第一膜层的衬底基板上形成第二膜层，对第二膜层进行构图，形成区域界定图案；压印图案形成步骤：形成压印胶层，对待压印区域和与待压印区域邻接的部分其他区域进行纳米压印，形成压印图案；刻蚀步骤：以压印图案为掩膜，对待压印区域的第一膜层进行刻蚀，形成纳米图案；去除步骤：采用刻蚀工艺，去除区域界定图案；拼接步骤：重复执行压印区域界定步骤、压印图案形成步骤、刻蚀步骤和去除步骤，形成拼接的第一纳米图案。从而，能形成精度高的纳米图案，制作出大尺寸的纳米图案，成本低廉，制作效率高。