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专利名称一种高亮透明反光膜的真空蒸镀工艺
申请日2019-01-10
申请号/专利号CN201910021975.5
专利权人合肥市辉耀真空材料有限责任公司
申请人合肥市辉耀真空材料有限责任公司
发明人/设计人刘思远
公告日2019-04-12
公告号CN109609913A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明公开了一种高亮透明反光膜的真空蒸镀工艺,将被镀植株基膜装入蒸镀室,然后冷却滚筒进行低温冷却、在蒸发槽内放入排列有蒸镀靶材的钼舟,并保证每部分蒸镀靶材到中心主鼓底端的距离相同,将蒸发槽关闭盖板后送入蒸镀室,对蒸镀室抽取真空;将蒸镀靶材加热至熔点、汽化,打开蒸发槽盖板,控制被镀植株基膜在蒸镀室内匀速的移动,进行逐步蒸镀操作;蒸镀完成后关闭设备。本发明提供的高亮透明反光膜的真空蒸镀工艺,最终得到的反光膜的反光亮度远远高于普通透明反光膜的反光亮度,具备很好的反光效果,且表面轻薄透明,适合后期深加工处理,同时金属膜牢固不易脱落。
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