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专利名称一种光刻投影物镜及光刻机
申请日2018-12-30
申请号/专利号CN201811648523.1
专利权人上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请人上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人/设计人张羽;安福平
公告日2019-02-22
公告号CN109375480A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明实施例提供一种光刻投影物镜,所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、光阑、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组,所述第一透镜组与所述第六透镜组关于所述光阑对称,所述第二透镜组与所述第五透镜组关于所述光阑对称;所述第三透镜组和所述第四透镜组关于所述光阑对称;其中,f1为所述第一透镜组以及所述第六透镜组的焦距,f2为所述第二透镜组以及所述第五透镜组的焦距,f3为所述第三透镜组以及所述第四透镜组的焦距。本发明实施例提供的一种光刻投影物镜,采用球面透镜设计透镜数量少降低了加工制造成本,增大了数值孔径并且适用于ghi三线波段,扩展了投影物镜的适用场景,提高了光刻机的分辨率。
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