本发明涉及一种远紫外高反镜的制备方法，包括清洗、镀膜、退火和储存，具体包括以下步骤：在镀膜时抽高真空离子束刻蚀清洗好基板，先镀打底层Cr膜后用热蒸发方式镀制Al膜，温度升高到180‑220℃烘烤镀膜室，继续抽真空用氩离子束流刻蚀Al膜表面Al2O3膜，然后电子束蒸镀MgF2薄膜；抽真空在250‑300℃温度下退火3小时提高样品薄膜质量，将样品充N2放入干燥柜中储存。与现有技术相比，本发明制备的远紫外高反膜光学特性优异、反射率较高、环境稳定性好，可以批量制备，在未来的光学薄膜领域具有广泛应用前景。